搪瓷反应釜的制作方法

作者:ab视讯发布日期:2020-12-18 04:55

  阳极氧化,金属或合金的电化学氧化。铝及其合金在相应的电解液和特定的工艺条件下,由于外加电流的作用下,在铝制品(阳极)上形成一层氧化膜的过程。阳极氧化如果没有特别指明,通常是指硫酸阳极氧化。为了克服铝合金表面硬度、耐磨损性等方面的缺陷,扩大应用范围,延长使用寿命,表面处理技术成为铝合金使用中不可缺少的一环,而阳极氧化技术是目前应用最广且最成功的。

  在阳极氧化的氧化流程中,通常采用阳极液对零件进行处理,在阳极液处理后,通常需要将阳极液进行排放,现有技术中,公告号为“CN 203960351U”的实用新型专利公开了一种零距离电解装置,该专利公开了一种阳极液放净槽,该种阳极液放净槽的中部包含一废液进入口,其顶部具有一废气吸收口,但是在使用后,需要对该种搪瓷反应釜进行清理,一般输入清理液清洗的过程中较为浪费清理液,而且达不到很好的清理效果。

  本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种搪瓷反应釜,包括釜体,所述釜体包括上釜体和下釜体,所述上釜体与下釜体之间可拆卸连接且上釜体与下釜体之间设置有密封件,所述下釜体外覆盖有壳体,所述壳体的内侧与下釜体的外侧之间设置有密封腔,所述下釜体的底部设置有贯穿壳体的排液部。

  通过采用上述技术方案,上釜体和下釜体之间不仅可以通过灌输有清洁液的方式进行清洁,同时可拆卸连接的上釜体和下釜体,从而可以将上釜体和下釜体分开,从而进行单独的清理,将釜体内部的杂质进行清理,通过时密封件保证了可拆卸的上釜体与下釜体之间不会发生泄露的问题;同时通过设置有壳体,加强了排净槽的结构强度,同时两者之间形成了密封腔,保证了排净槽内的温度,提高了阳极液的反应速度,同时壳体二次加强了釜体的密封效果,避免阳极液流出,造成污染,通过底部设置有排液部,可以将釜体内的液体排出,进一步方便釜体进行清理。

  作为优选,所述上釜体上设置有若干个排出口,每一所述排出口上设置有密封盖。

  通过采用上述技术方案,排出口和密封盖起到了供废气排出的作用,同时排出口也可以灌输有清理液,从而对釜体进行清理,同时由于排出口是设置在上釜体顶部的,所以可以对上釜体顶部进行清理。

  作为优选,所述下釜体的侧壁靠近上釜体的位置设置有输入口,所述输入口远离壳体设置。

  通过采用上述技术方案,输入口起到了供阳极液流入的作用,同时输入口远离壳体设置,避免输入口对壳体的结构造成影响。

  作为优选,所述壳体的内壁与下釜体的外壁之间设置有支撑柱,所述支撑柱的一端与下釜体的外壁固定连接,所述支撑柱的另一端设置有与壳体的内壁抵接的弹性块。

  通过采用上述技术方案,支撑柱起到了支撑壳体的作用,避免壳体在长时间放置的过程中发生变形,影响壳体的正常使用,同时使得流入密封腔的保温液体在同一径向的距离相同,使得保温效果一致,同时通过设置有弹性块,避免了支撑柱两侧都需要进行焊接,简化生产工序,同时弹性块避免了支撑柱与壳体之间的磨损。

  作为优选,所述壳体的上方设置有进水口,所述壳体的底部设置有排水口,所述排水口向下延伸有支撑釜体的支撑底座,所述排水口贯穿支撑底座设置。

  通过采用上述技术方案,支撑底座起到了支撑釜体的作用,同时支撑底座内贯穿设置有排水口,从而还能进一步起到了排出釜体内废水的作用,方便釜体进行清理。

  通过采用上述技术方案,排气阀起到了避免管体内水压或者气压过高的作用,在气压或者水压过高的情况下,排气阀会自动打开,从而将密封腔内的气体或液体排出,同时通过设置有排气阀,还能满足对密封腔内高速高压充入气体的作用。

  通过采用上述技术方案,搪瓷层避免了釜体内的腐蚀,同时由于搪瓷层较为光滑,所以阳极液不会残留在搪瓷层的表面,进一步地方便对釜体进行清理。

  作为优选,所述上釜体和下釜体之间设置有锁扣,所述下釜体和上釜体沿釜体的径向延伸出加压块,所述密封件设置在相邻的加压块之间,所述加压块沿釜体的轴向外延伸出与锁扣配合的延长块。

  通过采用上述技术方案,锁扣起到了使上釜体和下釜体可拆卸连接的作用,同时通过设置有加压块和向上延伸的延长块,增加了锁扣与上下釜体之间的接触面积,增强了固定效果;同时通过设置有锁扣,锁扣在使用的过程中,能够对密封圈进行加压,从而增强了密封效果。

  综上所述,本实用新型具有以下有益效果:上釜体和下釜体之间不仅可以通过灌输有清洁液的方式进行清洁,同时可拆卸连接的上釜体和下釜体,从而可以将上釜体和下釜体分开,从而进行单独的清理,将釜体内部的杂质进行清理,通过时密封件保证了可拆卸的上釜体与下釜体之间不会发生泄露的问题。

  图中,1、釜体;11、上釜体;12、下釜体;13、密封件;2、壳体;21、密封腔;22、排液部;3、排出口;31、密封盖;4、输入口;41、支撑柱;42、弹性块;43、进水口;44、排水口;45、支撑底座;46、排气口;47、排气阀;5、搪瓷层;51、锁扣;52、加压块;53、延长块。

  本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释,其并不是对本实用新型的限制,本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改,但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。

  如图1所示,一种搪瓷反应釜,包括釜体1,釜体1包括呈筒形且必有一端密封的上釜体11和下釜体12,上釜体11与下釜体12之间可拆卸连接且上釜体11与下釜体12之间设置有密封件13,密封件13为密封圈,上釜体11和下釜体12之间设置有锁扣51,下釜体12和上釜体11沿釜体1的径向延伸出加压块52,密封件13设置在相邻的加压块52之间,加压块52沿釜体1的轴向外延伸出与锁扣51配合的延长块53,锁扣51起到了使上釜体11和下釜体12可拆卸连接的作用,同时通过设置有加压块52和向上或向下延伸的弧形的延长块53,增加了锁扣51与上下釜体12之间的接触面积,增强了固定效果;同时通过设置有锁扣51,锁扣51在使用的过程中,能够对密封圈进行加压,从而增强了密封效果;釜体1的内侧壁设置有搪瓷层5,搪瓷层5避免了釜体1内的腐蚀,同时由于搪瓷层5较为光滑,阳极液不会残留在搪瓷层5的表面,方便清理;同时搪瓷层5采用申请号为“9.4”的发明专利中公开的搪瓷涂料加工而成。

  如图2所示,下釜体12外覆盖有壳体2,壳体2是围绕釜体1设置的,壳体2的内侧与下釜体12的外侧之间设置有密封腔21,下釜体12的底部设置有贯穿壳体2的排液部22,排液部22为排液口,同时在排液口上设置有盖体;壳体2上设置有排气口46,所述排气口46上设置有排气阀47;同时在壳体2的上方设置有进水口43,壳体2的底部设置有排水口44,排水口44向下延伸有支撑釜体1的正方体形状的支撑底座45,排水口44贯穿支撑底座45设置,同时在排水口44上设置有堵塞件。

  如图4所示,壳体2的内壁与下釜体12的外壁之间设置有截面形状呈矩形的支撑柱41,支撑柱41的一端与下釜体12的外壁固定连接,支撑柱41的另一端设置有与壳体2的内壁抵接的弹性块42,弹性块42采用橡胶块。

  如图1和图2所示,上釜体11上设置有若干个排出口3,每一排出口3上设置有密封盖31,排出口3和密封盖31起到了供废气排出的作用,同时排出口3也可以灌输有清理液,从而对釜体1进行清理,同时由于排出口3是设置在上釜体11顶部的,所以可以对上釜体11顶部进行清理;下釜体12的侧壁靠近上釜体11的位置设置有输入口4,输入口4远离壳体2设置,输入口4起到了供阳极液流入的作用,同时输入口4远离壳体2设置,避免输入口4对壳体2的结构造成影响。


ab视讯

上一篇:反应釜夹层盘管温控油温机

下一篇:淄博庚润化工设备有限公司